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在現代半導體制造和微納加工領域，光刻機是實現精密圖形轉移的關鍵設備。其中，接觸式光刻機以其特殊的工藝和高精度，在芯片制造等行業發揮著重要作用。那么，它的精度究竟有多高呢？接觸式光刻機的精度通常以線寬和分辨率來衡量。線寬指的是能夠清晰制造出的...
單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，非常適合大學和研發應用。EVG單面/雙面掩模對準光刻機特征：1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/8英寸。2、臺式或獨立式帶防振花崗巖臺面。3、敏捷的處理和轉換重新加工。4、分步...
Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術的基礎上，以其納米級測量準確度和重復性(穩定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。Subnano3D干涉輪廓儀產品優點：1、美國硅谷研發的核心技術和系統軟件。2、關鍵硬件采用美國、德國、日本等。3、PI納米移...
HerzTS主動隔振臺介紹：在21世紀納米技術(即先進的半導體代表相關的信息技術，基因療法等生命科學相關技術，原子或分子處理如MEMS和工程技術等新材料生產)，振動、噪聲、電磁領域、熱、濕度、干擾等是測量環境的抑制因素。在納米技術中，為了獲得可靠的結果，使用充氣被動隔振臺無法隔離低頻振動，此時需要主動隔離。主動式隔振系統“TS系列”將作為21世紀納米技術的隔振技術基礎。它將有助于發展目前的技術和測量、創新和發展未知的技術。HerzTS主動隔振臺特點：1、在全部的6個自由度范圍...